April 2023
環境保護署預告「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」修正草案（臺灣）
2023.04
許家綺
鑒於半導體製造業近年蓬勃發展，生產技術及製程設備亦不斷推陳出新，行政院環境保護署(下稱「環保署」)於2023年2月18日預告「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」修正草案(下稱「本草案」)，以兼顧環境保護與產能彈性，並追求合理的空氣污染防制標準。以下說明本草案修正重點：
1. 空污排放標準由「總排放量標準」調整為「個別排放管道濃度標準」
依據現行半導體製造業空氣污染管制及排放標準第4條規定，工廠空氣污染物的總排放量應小於特定數值，環保署認為此統一之總量標準忽略工廠規模差異，不當限制工廠產能管理之彈性，亦使主管機關之查核作業不易執行。因此，本草案將「總排放量標準」調整為「個別排放管道濃度標準」，要求工廠排放之廢氣其污染物之濃度不得超過指定上限。
2. 督促新建廠房及新設製程採取效能較佳的空污防制方案
隨著生產技術及製程設備演進，環保意識也逐漸抬頭，環保署為督促新建廠房及新設製程採取效能較佳的空污防制方案，本草案第4條要求新設製程應符合較既存製程嚴格的空污管制標準，以更有效率的污染防制設備處理受揮發性有機物及特定酸類化合物污染之空氣。具體而言，工廠之廢氣必須符合以下標準方得排放：
3. 調整流量計及自動監測器設置規則
依據本草案第5條規定，存在以下情況之廠商應於濃度超標之污染防制設備廢氣導入處或排放管道排放口設置流量計及自動監測器：
(1) 揮發性有機物原(物)料年用量大於25噸或工廠總排放量大於每小時0.6公斤；且
(2) 既存製程之揮發性有機物排放濃度大於14 ppm或新設製程之揮發性有機物排放濃度大於10 ppm之排放管道。
須注意者為：本草案使流量計及自動監測器之設置前提一致化，不再區分流量計及自動監測器個別的設置情境；此外，揮發性有機物原(物)料年用量大於指定門檻之工廠須設置監測器，此門檻由原本的年用量50噸調降為25噸。換言之，依本草案規定，年用量大於25噸之工廠必須在濃度超標的排放管道設置流量計及自動監測器。
臺灣近期積極倡議ESG及企業永續發展。其中，環保署於本次「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」修正草案中調整了空氣污染排放標準、監測器設置標準及其他細節，亦可視為永續發展之一環。相關業者宜注意草案的修法進展，並適時檢視既存製程並審慎規畫新設製程，確保兼顧企業發展及環保要求。
[1] 指本草案發布施行日前已建造完成、建造中、已完成工程招標程序或未經招標程序已訂立工程施作契約之半導體製造業製程(本草案第2條第9款)。
[2] 指空氣污染物經污染防制設備處理後之排放量削減百分比(本草案第2條第8款)。
[3] 包含在本草案發布施行日起設立之半導體製程，及既存半導體製程符合固定污染源設置操作及燃料使用許可證管理辦法第四條規定之變更條件者(本草案第2條第10款)。
許家綺
鑒於半導體製造業近年蓬勃發展，生產技術及製程設備亦不斷推陳出新，行政院環境保護署(下稱「環保署」)於2023年2月18日預告「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」修正草案(下稱「本草案」)，以兼顧環境保護與產能彈性，並追求合理的空氣污染防制標準。以下說明本草案修正重點：
1. 空污排放標準由「總排放量標準」調整為「個別排放管道濃度標準」
依據現行半導體製造業空氣污染管制及排放標準第4條規定，工廠空氣污染物的總排放量應小於特定數值，環保署認為此統一之總量標準忽略工廠規模差異，不當限制工廠產能管理之彈性，亦使主管機關之查核作業不易執行。因此，本草案將「總排放量標準」調整為「個別排放管道濃度標準」，要求工廠排放之廢氣其污染物之濃度不得超過指定上限。
2. 督促新建廠房及新設製程採取效能較佳的空污防制方案
隨著生產技術及製程設備演進，環保意識也逐漸抬頭，環保署為督促新建廠房及新設製程採取效能較佳的空污防制方案，本草案第4條要求新設製程應符合較既存製程嚴格的空污管制標準，以更有效率的污染防制設備處理受揮發性有機物及特定酸類化合物污染之空氣。具體而言，工廠之廢氣必須符合以下標準方得排放：
| 適用對象 | 空氣污染物 | 排放標準 |
| 既存製程[1] | 揮發性有機物 | 排放削減率[2]應達90 %或排放濃度14 ppm以下(以甲烷為計算基準)。 |
| 硝酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸及硫酸 | 排放削減率應達95%或排放濃度0.5 ppm以下。 | |
| 新設置程[3] | 揮發性有機物 | 排放削減率應達95 %或排放濃度10 ppm以下(以甲烷為計算基準)。 |
| 硝酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸及硫酸 | 排放削減率應達96%或排放濃度0.3 ppm以下。 |
3. 調整流量計及自動監測器設置規則
依據本草案第5條規定，存在以下情況之廠商應於濃度超標之污染防制設備廢氣導入處或排放管道排放口設置流量計及自動監測器：
(1) 揮發性有機物原(物)料年用量大於25噸或工廠總排放量大於每小時0.6公斤；且
(2) 既存製程之揮發性有機物排放濃度大於14 ppm或新設製程之揮發性有機物排放濃度大於10 ppm之排放管道。
須注意者為：本草案使流量計及自動監測器之設置前提一致化，不再區分流量計及自動監測器個別的設置情境；此外，揮發性有機物原(物)料年用量大於指定門檻之工廠須設置監測器，此門檻由原本的年用量50噸調降為25噸。換言之，依本草案規定，年用量大於25噸之工廠必須在濃度超標的排放管道設置流量計及自動監測器。
臺灣近期積極倡議ESG及企業永續發展。其中，環保署於本次「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」修正草案中調整了空氣污染排放標準、監測器設置標準及其他細節，亦可視為永續發展之一環。相關業者宜注意草案的修法進展，並適時檢視既存製程並審慎規畫新設製程，確保兼顧企業發展及環保要求。
[1] 指本草案發布施行日前已建造完成、建造中、已完成工程招標程序或未經招標程序已訂立工程施作契約之半導體製造業製程(本草案第2條第9款)。
[2] 指空氣污染物經污染防制設備處理後之排放量削減百分比(本草案第2條第8款)。
[3] 包含在本草案發布施行日起設立之半導體製程，及既存半導體製程符合固定污染源設置操作及燃料使用許可證管理辦法第四條規定之變更條件者(本草案第2條第10款)。
