April 2023
环境保护署预告「半导体制造业空气污染管制及排放标准」修正草案（台湾）
2023.04
许家绮
鉴于半导体制造业近年蓬勃发展，生产技术及制程设备亦不断推陈出新，行政院环境保护署(下称「环保署」)于2023年2月18日预告「半导体制造业空气污染管制及排放标准」修正草案(下称「本草案」)，以兼顾环境保护与产能弹性，并追求合理的空气污染防制标准。以下说明本草案修正重点：
1. 空污排放标准由「总排放量标准」调整为「个别排放管道浓度标准」
依据现行半导体制造业空气污染管制及排放标准第4条规定，工厂空气污染物的总排放量应小于特定数值，环保署认为此统一之总量标准忽略工厂规模差异，不当限制工厂产能管理之弹性，亦使主管机关之查核作业不易执行。因此，本草案将「总排放量标准」调整为「个别排放管道浓度标准」，要求工厂排放之废气其污染物之浓度不得超过指定上限。
2. 督促新建厂房及新设制程采取效能较佳的空污防制方案
随着生产技术及制程设备演进，环保意识也逐渐抬头，环保署为督促新建厂房及新设制程采取效能较佳的空污防制方案，本草案第4条要求新设制程应符合较既存制程严格的空污管制标准，以更有效率的污染防制设备处理受挥发性有机物及特定酸类化合物污染之空气。具体而言，工厂之废气必须符合以下标准方得排放：
3. 调整流量计及自动监测器设置规则
依据本草案第5条规定，存在以下情况之厂商应于浓度超标之污染防制设备废气导入处或排放管道排放口设置流量计及自动监测器：
(1) 挥发性有机物原(物)料年用量大于25吨或工厂总排放量大于每小时0.6公斤；且
(2) 既存制程之挥发性有机物排放浓度大于14 ppm或新设制程之挥发性有机物排放浓度大于10 ppm之排放管道。
须注意者为：本草案使流量计及自动监测器之设置前提一致化，不再区分流量计及自动监测器个别的设置情境；此外，挥发性有机物原(物)料年用量大于指定门槛之工厂须设置监测器，此门槛由原本的年用量50吨调降为25吨。换言之，依本草案规定，年用量大于25吨之工厂必须在浓度超标的排放管道设置流量计及自动监测器。
台湾近期积极倡议ESG及企业永续发展。其中，环保署于本次「半导体制造业空气污染管制及排放标准」修正草案中调整了空气污染排放标准、监测器设置标准及其他细节，亦可视为永续发展之一环。相关业者宜注意草案的修法进展，并适时检视既存制程并审慎规画新设制程，确保兼顾企业发展及环保要求。
[1] 指本草案发布施行日前已建造完成、建造中、已完成工程招标程序或未经招标程序已订立工程施作契约之半导体制造业制程(本草案第2条第9款)。
[2] 指空气污染物经污染防制设备处理后之排放量削减百分比(本草案第2条第8款)。
[3] 包含在本草案发布施行日起设立之半导体制程，及既存半导体制程符合固定污染源设置操作及燃料使用许可证管理办法第四条规定之变更条件者(本草案第2条第10款)。
许家绮
鉴于半导体制造业近年蓬勃发展，生产技术及制程设备亦不断推陈出新，行政院环境保护署(下称「环保署」)于2023年2月18日预告「半导体制造业空气污染管制及排放标准」修正草案(下称「本草案」)，以兼顾环境保护与产能弹性，并追求合理的空气污染防制标准。以下说明本草案修正重点：
1. 空污排放标准由「总排放量标准」调整为「个别排放管道浓度标准」
依据现行半导体制造业空气污染管制及排放标准第4条规定，工厂空气污染物的总排放量应小于特定数值，环保署认为此统一之总量标准忽略工厂规模差异，不当限制工厂产能管理之弹性，亦使主管机关之查核作业不易执行。因此，本草案将「总排放量标准」调整为「个别排放管道浓度标准」，要求工厂排放之废气其污染物之浓度不得超过指定上限。
2. 督促新建厂房及新设制程采取效能较佳的空污防制方案
随着生产技术及制程设备演进，环保意识也逐渐抬头，环保署为督促新建厂房及新设制程采取效能较佳的空污防制方案，本草案第4条要求新设制程应符合较既存制程严格的空污管制标准，以更有效率的污染防制设备处理受挥发性有机物及特定酸类化合物污染之空气。具体而言，工厂之废气必须符合以下标准方得排放：
| 适用对象 | 空气污染物 | 排放标准 |
| 既存制程[1] | 挥发性有机物 | 排放削减率[2]应达90 %或排放浓度14 ppm以下(以甲烷为计算基准)。 |
| 硝酸、盐酸、磷酸、氢氟酸及硫酸 | 排放削减率应达95%或排放浓度0.5 ppm以下。 | |
| 新设置程[3] | 挥发性有机物 | 排放削减率应达95 %或排放浓度10 ppm以下(以甲烷为计算基准)。 |
| 硝酸、盐酸、磷酸、氢氟酸及硫酸 | 排放削减率应达96%或排放浓度0.3 ppm以下。 |
3. 调整流量计及自动监测器设置规则
依据本草案第5条规定，存在以下情况之厂商应于浓度超标之污染防制设备废气导入处或排放管道排放口设置流量计及自动监测器：
(1) 挥发性有机物原(物)料年用量大于25吨或工厂总排放量大于每小时0.6公斤；且
(2) 既存制程之挥发性有机物排放浓度大于14 ppm或新设制程之挥发性有机物排放浓度大于10 ppm之排放管道。
须注意者为：本草案使流量计及自动监测器之设置前提一致化，不再区分流量计及自动监测器个别的设置情境；此外，挥发性有机物原(物)料年用量大于指定门槛之工厂须设置监测器，此门槛由原本的年用量50吨调降为25吨。换言之，依本草案规定，年用量大于25吨之工厂必须在浓度超标的排放管道设置流量计及自动监测器。
台湾近期积极倡议ESG及企业永续发展。其中，环保署于本次「半导体制造业空气污染管制及排放标准」修正草案中调整了空气污染排放标准、监测器设置标准及其他细节，亦可视为永续发展之一环。相关业者宜注意草案的修法进展，并适时检视既存制程并审慎规画新设制程，确保兼顾企业发展及环保要求。
[1] 指本草案发布施行日前已建造完成、建造中、已完成工程招标程序或未经招标程序已订立工程施作契约之半导体制造业制程(本草案第2条第9款)。
[2] 指空气污染物经污染防制设备处理后之排放量削减百分比(本草案第2条第8款)。
[3] 包含在本草案发布施行日起设立之半导体制程，及既存半导体制程符合固定污染源设置操作及燃料使用许可证管理办法第四条规定之变更条件者(本草案第2条第10款)。
