2019.4.16
洪堃哲 律师
立法院于中华民国108年4月16日立法院第9届第7会期第9次会议通过专利法（下称本法）修正案，修正重点如下：
首先、新修正本法第135条规定，将设计专利权期间由修正前之十二年延长为十五年，以扩大对设计专利保护。
其次、为扩大核准审定后分割适用范围及期限，修正前限于发明专利核准审定后三十日始可分割，新修正本法第34条放宽发明专利申请案于初审核准审定书或再审查核准审定书送达后三个月内得申请分割，并适用新型专利。
第三、为避免延宕审查，新修正本法第73条规定更进一步限制举发人应于三个月内补提理由，逾期不予审酌。
第四、考虑新型专利未经实质审查，为避免新型专利权利范围可事后透过更正任意更动，从而影响第三人权益，新修正本法第118条规定，将专利得申请更正的时间点，限制为除有例外情形，原则上仅得于一、新型专利权有新型专利技术报告申请案件受理中；或二、新型专利权有诉讼案件系属中始得申请更正。
第五、新修正第143条规定，未来仅限于，经专利专责机关认定具保存价值之专利档案中之申请书件、说明书、申请专利范围、摘要、图式及图说，始应永久保存。其余部分，分别类型：一、发明专利案除经审定准予专利者保存三十年外，应保存二十年；二、新型专利案除经处分准予专利者保存十五年外，应保存十年；三、设计专利案除经审定准予专利者保存二十年外，应保存十五年。